Bi zêdebûna daxwaziya bazarê re, bêtir û bêtir celebên armancên sputtering bi domdarî têne nûve kirin.Hin ji xerîdaran re nas in û hin jî nenas in.Naha, em dixwazin bi we re parve bikin ku celebên armancên şûştina magnetron çi ne.
Hedefa rijandinê ev cûre hene: hedefa kişandina metalê, hedefa çîpkirina alyozê, hedefa kişandina seramîk a seramîk, hedefa rijandina seramîk a borîd, hedefa lêxistina seramîk a karbîd, hedefa kişandina seramîk a florîd, hedefa nitrîd seramîk a xiftanînê , hedefa rijandina seramîk a sîlicîd, hedefa rijandina seramîk a sulfîd, hedefa rijandina seramîk a telûrîd, hedefên seramîk ên din, hedefa seramîk a oksîtê silicê ya bi kromê dopîkirî (CR SiO), hedefa fosfîdê îndyûm (INP), hedefa arsenîda seramîk (pbas), hedefa arsenîda îndyûm (pbas) ).
Sputtering Magnetron bi gelemperî li du celeb têne dabeş kirin: DC sputtering û RF.Prensîba alavên şûştina DC-ê hêsan e, û rêjeya wê jî dema ku metal diqulipîne zû ye.Sputtering RF bi berfirehî tê bikar anîn.Ji xeynî sputterkirina daneyên guhêrbar, ew dikare daneyên ne-rêveber jî bişopîne.Di heman demê de, mebesta avêtinê di heman demê de şûştina reaktîf jî pêk tîne da ku daneyên tevlihev ên wekî oksîd, nîtrîd û karbîd amade bike.Ger frekansa RF-ê zêde bibe, ew ê bibe pîvaza plazmaya mîkro.Heya nuha, pîvazkirina plazmaya mîkropêla resonansê ya elektron cyclotron (ECR) bi gelemperî tê bikar anîn.
Dema şandinê: Gulan-18-2022