Naha bêtir û bêtir bikarhêner celebên armanc û armancê fam dikinsepanên wê, lê dibe ku dabeşkirina wê ne pir zelal be.Niha em werinendezyar RSM bi we re parve bikinhin induction armancên sputtering magnetron.
Armanca Sputtering: Metal Sputtering Armanc, Armanca Kevir a Sputtering, Armanca Navamî ya Nitride hedef, hedefa rijandina seramîk a sulfîd, hedefa rijandina seramîk a telurîd, hedefên seramîk ên din, hedefa seramîk a oksîtê siliconê ya bi kromê dopîkirî (CR SiO), hedefa fosfîdê îndyûm (INP), hedefa arsenîd a seramîk (pbas), hedefa arsenîda îndyûm (InAs).
Sputtering Magnetron bi gelemperî li du celeb têne dabeş kirin: DC sputtering û RF.Prensîba alavên şûştina DC-ê hêsan e, û rêjeya wê jî dema ku metal diqulipîne zû ye.Sputtering RF bi berfirehî tê bikar anîn.Ji xeynî sputterkirina daneyên guhêrbar, ew dikare daneyên ne-rêveber jî bişopîne.Hedefa şûştinê di heman demê de dikare ji bo rijandina reaktîf were bikar anîn da ku daneyên tevlihev ên wekî oksîd, nîtrîd û karbîd amade bike.Ger frekansa RF-ê zêde bibe, ew ê bibe pîvaza plazmaya mîkro.Heya nuha, pîvazkirina plazmaya mîkropêla resonansê ya elektron cyclotron (ECR) bi gelemperî tê bikar anîn.
Dema şandinê: Gulan-26-2022