Kişandina kişandina Magnetron rêgezek nû ya pêvekirina vaporê ya laşî ye, li gorî rêbaza pêlavkirina evaporasyonê ya berê, avantajên wê di gelek aliyan de pir balkêş in.Wekî teknolojiyek gihîştî, sputtering magnetron di gelek qadan de hatî sepandin.
Prensîba kişandina Magnetron:
Zeviyek magnetîkî ya ortogonal û zeviyek elektrîkê di navbera stûna armancê (katod) û anodê de tê zêdekirin, û gaza bêserûber (bi gelemperî gaza Ar) di jûreya valahiya bilind de tê dagirtin.Magnata daîmî li ser rûyê materyalê armanc qadek magnetîkî ya 250-350 gaus çêdike, û qada elektromagnetîk a ortogonal bi qada elektrîkê ya voltaja bilind pêk tê.Di bin bandora qada elektrîkê de, ionîzasyona gaza Ar di nav îyon û elektronên erênî de, armanc dike û xwedan zextek neyînî ye, ji armancê ji polê bi bandora qada magnetîkî û îhtîmala îyonîzasyona gazê ya xebatê zêde dibe, plazmayek tîrêjê ya bilind li nêzê katod, Ar ion di bin bandora hêza lorentz de, lez dike ku bifire ber bi rûyê armancê, bi leza zêde rûberê armancê bombardiman dike, Atomên ku li ser armancê hatine rijandin prensîba veguheztina momentumê dişopînin û bi kînetîka bilind ji rûyê armancê dûr dikevin. enerjî ji bo fîlima hilweşandina substratê.
Sputtering Magnetron bi gelemperî li du celeb têne dabeş kirin: DC sputtering û RF.Prensîba alavên şûştina DC-ê hêsan e, û rêje dema ku metal diqulipîne zû ye.Bikaranîna rijandina RF-ê berfirehtir e, ji bilî rijandina materyalên rêkûpêk, lê di heman demê de rijandina materyalên ne-rêveber, lê di heman demê de amadekirina şûştina reaktîf a oksîd, nîtrîd û karbîd û materyalên din ên tevlihev.Ger frekansa RF zêde bibe, ew dibe pîvaza plasma ya mîkro.Heya nuha, pîvazkirina plazmaya mîkropêla rezonansê (ECR) bi gelemperî tê bikar anîn.
Materyalên armancê yên pêlêkirina Magnetron sputtering:
Materyalên hedefa rijandina metal, maddeya xêzkirina aliyoya nixumandinê, maddeya xêzkirina seramîk a seramîk, malzemeyên armancê yên seramîk ên borîd, maddeya mebesta rijandina seramîk a karbîd, materyalê hedefa rijandina seramîk a florîd, materyalên armancê rijandin seramîk nitrid, materyalên armancê yên seramîk ên nitrîd, oksîdêra ceramîk hedef, ceramîk ceramî Materyalên mebesta avêtina seramîk a silicide, maddeya mebesta avêtina seramîk a sulfîd, hedefa rijandina seramîk a Telluride, hedefa seramîk a din, hedefa seramîk a oksîdê siliconê ya bi kromê dopkirî (CR-SiO), hedefa fosfîdê îndyûm (InP), hedefa arsenîd a seramîk (PbAs), hedef (InAs).
Dema şandinê: Tebax-03-2022