Silicide Tungsten

Tungsten silicide WSi2 di mîkroelektronîkê de wekî materyalek şoka elektrîkê tê bikar anîn, li ser têlên polysilicon veqetandin, pêlava antî-oksîdasyon û pêlava têla berxwedanê tê bikar anîn.Silicide Tungsten wekî materyalek têkiliyê di mîkroelektronîkê de, bi berxwedanek 60-80μΩcm tê bikar anîn.Di 1000°C de çêdibe.Ew bi gelemperî ji bo xetên polysilicon wekî şunt tê bikar anîn da ku guheztina xwe zêde bike û leza sînyalê zêde bike.Tebeqeya Silicide ya tungstenê dikare bi vekirina buhara kîmyewî, wekî vegirtina buharê, were amadekirin.Monosilane an dichlorosilane û hexafluoride tungsten wekî gaza madeya xav bikar bînin.Fîlimê ku hatî razandin ne-stokyometrîk e û pêdivî ye ku lêdan bi rengek stoichiometrîkî veguheztir were veguheztin.

Silicide Tungsten dikare şûna fîlima tungstenê ya berê bigire.Silicide Tungsten di heman demê de wekî qatek asteng di navbera silicon û metalên din de tê bikar anîn.

Silicide Tungsten di pergalên mîkroelektromekanîkî de jî pir bi qîmet e, di nav wan de silicide tungsten bi giranî wekî fîlimek zirav ji bo çêkirina mîkrocircuitan tê bikar anîn.Ji bo vê armancê, fîlima silicide ya tungsten dikare bi karanîna plasma-ê, mînakî, silicide were xemilandin.

Materyalên Taybet ên Rich di Çêkirina Hedefa Sputtering de pispor e û dikare li gorî taybetmendiyên Xerîdar Materyalên Sputterkirina Silicide Tungsten hilberîne.Ji bo bêtir agahdarî, ji kerema xwe bi me re têkilî daynin.